武漢藍銳達信息技術有限公司
Wuhan Lanruida Information Technology Co.,Ltd

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離子濺射儀ISC150(低真空)
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離子濺射儀ISC150(低真空)

 
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       采用進口品牌高性能旋片泵快速產生一個 < 1-2 Pa的真空壓強,通常抽真空時間小于3-5分鐘。采用高品質恒功率磁控濺射電源,以確保恒定鍍膜沉積速率。磁控陰極的使用也大幅度減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷。特別適用于追求更高分辨率或溫度敏感SEM 電鏡樣品的噴金、噴鉑等貴金屬鍍膜用途。

       觸摸屏控制,即插即用。


產品名稱

離子濺射儀ISC 150(低真空版)

產品圖片

ISC150.jpg

泵組

外置美國 Welch真空旋片泵

抽速

>2 m3/h

極限真空

<1 Pa

工作氣壓

4 -10 Pa,恒壓控制,空氣

抽真空時間

<3-5 Min

樣品腔室尺寸

? 150 *110 mm 石英玻璃

磁控濺射陰極

靶材尺寸 ? 50 *0.1-3 mm

樣品溫度

35-50

濺射電源

恒功率磁控DC濺射電源

Max. 30W ,Max. 100 mA

濺射時間

1-600sec

操作方式

觸摸屏控制

外形尺寸

420 mm*300 mm*380 mm

適用靶材

   貴金屬Au、Pt、Pd;

合金Au-Pd、Pt-Pd

沉積速率

5Pa/20W Au target: 24nm/min

                                                Pd target:~60nm/min

附件

ISC 150ISC 150T可加裝樣品原位等離子清洗模塊RPS20、ISC150T可選配噴碳模塊

可選配旋轉樣品臺

推薦應用

追求更高分辨率或溫度敏感SEM 電鏡樣品的噴金、噴鉑等貴金屬鍍膜用途即推薦燈絲或臺式SEM電鏡樣品前處理

產品優勢

采用高品質恒功率磁控濺射電源,確保恒定鍍膜沉積速率。磁控陰極的使用也有效減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷



ISC150尺寸圖.png

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